삼성전자, 중국 시안 반도체 2기 라인 착공

2019년 완공 목표로 총 70억달러 투자

2019-03-28 이우열 기자

[매일일보 이우열 기자] 삼성전자[005930]가 3D V낸드 수요 증가에 대응하고자 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인을 건설한다고 28일 밝혔다.이날 오전 중국 산시성 시안시에서 열린 ‘삼성 중국 반도체 메모리 제2라인 기공식’에는 후허핑 산시성 성위서기, 먀오웨이 공신부 부장, 류궈중 산시성 성장, 노영민 주중 한국대사, 이강국 주시안 총영사, 김기남 삼성전자 사장 등이 참석했다.앞서 삼성전자는 2017년 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며, 향후 3년간 총 70억달러를 투자하기로 했다.이로써 삼성전자는 중국 시안에 반도체 2기 라인을 구축, 낸드플래시를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응한다는 계획이다.김기남 삼성전자 사장은 기념사를 통해 “시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께, 차별화된 솔루션을 고객에게 제공하여 글로벌 IT 시장 성장에 지속 기여 하겠다”고 말했다.류궈중 산시성 성장은 축사를 통해 “삼성 프로젝트 2기 착공을 축하한다”며 “산시성은 앞으로도 삼성과 그 협력사들의 발전을 지원하며 협력관계를 강화할 것”이라고 밝혔다.