고집적 적층형 차세대 반도체 소자 연구
매일일보 = 최한결 기자 | 국민대학교는 최성진 전자공학부 교수가 엘스비어와 존 론니디스 스탠퍼드 대학 교수가 발표하는 세계 최상위 연구자 2% 리스트에 2년 연속 선정됐다고 28일 밝혔다.
최성진 교수는 현재 양산되고 있는 실리콘 기반의 차세대 반도체 전자소자뿐만 아니라 반도체 신물질을 이용한 미래 반도체 소자에 대한 연구를 진행하고 있다.
최 교수는 특히 AI 시대에 필수적인 고집적 적층형 차세대 반도체 소자에 대한 연구를 진행하고 있다.
실리콘 물질뿐만 아니라 △탄소나노튜브 △2차원 반도체 물질 등 저차원 반도체 물질을 이용한 차세대 반도체 소자에 대한 연구도 수행하고 있다.
현재는 한국연구재단의 지원을 받아 웨이퍼 기반의 탄소나노튜브 CMOS 전자소자 상용화 기술 개발 연구와 차세대 지능형 반도체 사업단의 차세대 대면적 3차원 Monolithic 집적을 위한 저온 공정 기반 Si·Ge 채널 상부 응용 소자 제작 기술 개발 및 회로 아키텍쳐 구현 연구를 진행하고 있다.
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